Web使用 COMSOL Multiphysics 多物理场软件,可以定量描述湿法化学刻蚀中涉及的关键物理过程:. 刻蚀剂向表面的质量传递. 刻蚀液的流体力学. 导致凹槽生长的表面反应. 由于刻蚀过程而导致的几何变化. 化学蚀刻教程模型 特别关注质量传递,并将表面反应描述为进入 ... Websource power也叫antenna power,指等离子源的功率,粗略理解就是腔体内产生更多的等离子体,如果刻蚀是rie,化学刻蚀的话是会加大刻蚀速率的; bias power是衬底偏压的大小,这个功率越大等离子体会更快地轰击待刻材料的表面,对于ibe,物理刻蚀的速率有较大提升 ...
如何在 COMSOL Multiphysics® 中模拟湿法化学刻蚀
WebMay 15, 2024 · AlCu合金的反应离子刻蚀工艺研究No.3Jun.,2010微处理机MICROPROCESSORS(电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都610054)摘要:AlCu合金的反应离子刻蚀具有其工艺特殊性,如Cu除、侧壁的保护、后腐蚀的抑Cl2、N2和CH4刻蚀AlCu合金,获得了优化的工艺 ... WebAug 21, 2024 · 3um一般通过干法等离子刻蚀完成的。 Metal干法腐蚀主要以各向异性腐蚀为主。 等离子腐蚀: 等离子腐蚀是依靠高频辉光放电形成的化学活性游离基与被腐蚀材料发生化学反应的一种选择性腐蚀方法。 registry with powershell
刻蚀 - 百度百科
WebOct 11, 2024 · KOH湿法刻蚀一般操作流程. 在湿台上操作需要完整的个人防护设备(PVC 围裙、面罩和长袖手套)。. 开启湿法台加热。. 在开始泵送和加热之前检查室温下的密度:. 使用专用的标记密度计。. 密度应与前表中指示的值相对应。. 如果密度较高,可以加一些水 ... Web刻蚀,英文为Etch,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。所谓刻蚀,实际上狭义理解就是光刻腐蚀,先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理,然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分 ... registry with multiple stores